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等离子体增强化学气相淀积图谱-自然科学领域：

研究人员

曾绍鸿 陈蒲生 王鹏飞 王川 王锋 张卫 吴子景 蒋宾

相关术语

低温 介质膜 稳定性 二氧化硅 光学特性 氮化硅 最优化工艺 薄膜

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