胡光 吴雯 叶芸 王敬义 尹盛 王鸣 李战春 赵亮 顾豪爽 刘卫国 马睿 张凯 蔡长龙 戎华 葛益娴 刘婵

等离子体 深度刻蚀 掩蔽层材料 湿法刻蚀 反应离子刻蚀 表面粗糙度 微机电系统 优化工艺参数 选择比 沉降时间 粉粒表面刻蚀 ICP刻蚀