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赵炳辉图谱-自然科学领域:
相关人员
赵星
黄靖云
王樟茂
陈立登
崔继锋
吴贵斌
刘国军
吴兴松
研究领域
抗弯强度
硅
氢还原反应
锗硅
亚微米
势垒高度
双晶衍射
三氯氢硅
所属机构
浙江杭州
浙江大学材料系
浙江大学化学工程学系
浙江大学半导体材料研究所
浙江大学硅材料国家重点实验室
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