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杨炳良图谱-自然科学领域:
相关人员
李斌
杨春辉
刘百勇
陈斗南
郑学仁
黄仑
王曦
郑耀宗
研究领域
薄电介质膜
瞬态热响应
正温度系数
二氧化硅
扩展电阻
硅平面工艺
温度传感器
封装效应
氮氧化硅
电子陷阶
硅
所属机构
华南理工大学应用物理系
香港城市大学电子工程学系
香港城市大学电子工程系
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