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硅粉粒 淀积速率 a-Si薄膜 薄膜生长 平均动能 淀积理论模型 非晶硅薄膜 APCVD 粉粒表面刻蚀 粉体刻蚀 靶中毒 鞘区离子动能 分布函数 太阳能级硅 等离子体 常压CVD 离子刻蚀 刻蚀速率 阴极鞘层 等离子体鞘层 宏观粒子 化学气相淀积 纯化模型 沉降时间 统一模型 热扩散 刻蚀与纯化 非晶硅 粉粒沉降 工艺参数

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