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王国雄图谱-自然科学领域:
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研究领域
光刻仿真
磁致旋光
磁圆二色性
SiC砖
总线
法拉第效应
晶体结构
光刻模拟
光学邻近校正
氧化
机理
碱蚀
硅传递
可变阈值光刻胶模型
低功耗
X射线
N-氧化吡啶-2-甲醛
配合物
指标化
环
镍
初渣偏流
移相掩模
系统芯片
高炉
所属机构
浙江杭州
浙江大学超大规模集成电路设计研究所
华东地质学院信息工程系
江西抚州
鞍山科技大学电子与信息工程学院
辽宁鞍山
南京大学化学系
吉林大学化学系
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