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Cu-Al合金图谱-材料领域：

研究人员

郜建新 贾淑果 国秀花 田保红 任凤章 宋克兴 刘勇 李红霞

相关术语

致密化 孔隙 弥散强化 电导率 内氧化深度 逆扩散 内氧化前沿界面 烧结

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