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饶瑞图谱-材料领域：

相关人员

Johnny K O Sin 曾祥斌 崔万秋 孙国才 王长安 徐重阳

研究领域

应用 多晶硅薄膜 Fe2O3—堇青石 N2O 非晶硅薄膜 常温红外辐射率 多晶硅薄膜器件 金属诱导晶化

所属机构

华中科技大学物理系 华中科技大学电子科学与技术系 香港科技大学电气与电子工程系 华中理工大学电子科学与技术系

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