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陈金昌图谱-材料领域：

相关人员

周云松 周安 闵子建 王崇愚 郑鹉 严格 王岩国 王艾玲 王海 刘湘华 周少雄 崔利亚

研究领域

界面结构 磁致电阻率 热处理 多层膜 NiFe／Mo多层膜 巨磁电阻 层问耦合 织构 矫顽力 剩磁增强 各向异性磁电阻 剩磁比 NiFe／Cu多层膜 CoNi多层膜 NiFe薄膜 Sm22Co78Fe65Co35Sm22Co78三层膜 磁性

所属机构

首都师范大学物理系

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