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罗木昌图谱-材料领域：

相关人员

孙国胜 朱世荣 王雷 林兰英 李晋闽

研究领域

LPCVD 方形3C-SiC岛 Si（001）衬底

所属机构

北京10 中国科学院半导体研究所材料科学中心

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