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牛晓滨图谱-材料领域：

相关人员

余庆选 方容川 常超 廖源

研究领域

HFCVD SiCN薄膜 α-Si3N4

所属机构

中国科学技术大学物理系 中国科学技术大学结构分析开放研究实验室

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