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吴顺华图谱-材料领域：

相关人员

王国庆 陈力颖 董向红 钱端芬 石锋

研究领域

界面状况 （Zr Si元素富集 机械性能 Sn）TiO4 介电性能 Ni掺杂 界面反应

所属机构

天津大学分析中心 湖南大学材料学院 天津大学电子信息工程学院

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