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伊廷锋图谱-材料领域：

相关人员

袁国辉 戴长松 王殿龙 胡信国

研究领域

泡沫镍 面密度 抗拉强度 DTR 延伸率 导电化方法

所属机构

黑龙江哈尔滨 哈尔滨工业大学应用化学系

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