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雷红图谱-机械领域:
相关人员
丘海能
褚风灵
严琼林
吴鑫
司马能
官文超
卢海参
方亮
研究领域
化学机械抛光CMP)
平面化
CMP机理
化学修饰
硬盘基片
玻璃基片
纳米金刚石
磺化
所属机构
华中理工大学化学系
上海电机学院机械学院
清华大学摩擦学国家重点实验室
上海大学纳米科学与技术研究中心
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