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刘正堂图谱-航空航天领域:
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研究领域
类金刚石薄膜
结构
电子结构
CuAg导电薄膜
沉积速率
密度泛函理论(DFT)
化学气相沉积
反应离子刻蚀
ZnS
光学特性
热稳定性
电学性能
欧姆接触
射频磁控溅射
C-V特性
溅射功率
红外透过率
薄膜
刻蚀深度
二维亚波长结构
四方晶相HfO2
磁控反应溅射
HfO2高k薄膜
HfO2薄膜
类金刚石碳膜
透过率
快速退火
体材料
衍射效应
所属机构
西北工业大学凝固技术国家重点实验室
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